行業(yè)背景
IC設計（Integrated Circuit Design）稱為集成電路設計，是運用專業(yè)的邏輯和電路設計技術設計集成電路。根據世界半導體貿易組織（WSTS），2014年全球IC /半導體銷售額達到3,254億美元，同比增長6.48%，2015年銷售額達到3610億美元，增長率為25%。預計未來五年仍是IC設計行業(yè)高速發(fā)展的黃金時期。
面臨挑戰(zhàn)
IC納米制程工藝中，集成電路的精細度高，也就是說精度越高，生產工藝越先進。在處理器內部集成更多的晶體管后，可實現(xiàn)更多的功能和更高的性能，直接降低了處理器的生產成本，減少處理器的功耗。但隨著集成電路中的工藝節(jié)點越來越小，關鍵尺寸測量也同時面臨越來越大的挑戰(zhàn)。這樣如何測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息顯得尤為重要。
解決方案
ME-L系列穆勒橢偏儀根據測量到橢偏參數（Ψ ：振幅比，△：相位差），通過內置數百個光學模型進行擬合可一次性測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息。
1.建立光學模型
2.建立光學模型
客戶價值
ME-L系列橢偏儀非常適用于納米級光柵的結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息的測量與分析，并能快速一次性完成其多個重要參數測量。同時支持定制化整合于工藝流程實現(xiàn)實時在線監(jiān)測，大幅度提升企業(yè)的整合生產效率。
關聯(lián)產品與配置
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ME-L穆勒矩陣橢偏儀 |
0571-86775300
